فتوکاتالیست فرایند

مشخصه مهم در مواد فتوکاتالیست نیمه‌رسانا، عرض گاف و سطح نوار ظرفیت و سطح نوار رسانش است. 1‏-‏2 ساخت فوتوکاتالیست شکل (1ـ3) نشان دهنده عناصری می‌‌باشد که با آن مواد فتوکاتالیست ساخته می‌‌شوند. بسیاری از اکسیدهای فلزی، سولفیدها و نیترید‌‌های که بر پایه کاتیون‌‌های فلزی گروه d0 و d10 هستند خاصیت فوتوکاتالیستی دارند.
بازده فرایندهای فوتوکاتالیتیک که در مقالات علمی با عنوان «بازده کوانتومی» (Quantom Yield) معرفی می شود، نسبت تعداد الکترون - حفره ایجاد شده بر هر فوتون جذب شده را نشان می دهد. البته توانایی اندازه‌ گیری نور جذب‌ شده واقعی در سیستم‌های فوتوکاتالیتیک [به دلیل پراکندگی نور در سطح نیمه ‌رسانا] بسیار دشوار است.
3.تخریب ترکیبات آلی OH رادیکالی ،طی یک اکسیداسیون قوی الکترون را از نزدیک ترین ترکیب آلی همسایه دریافت می کند تا به پایداری بیشتری برسد.با این روش ترکیبات آلی با از دست دادن الکترون ودر نهایت تبدیل شدن به دی اکسید کربن و آب تخریب می شود و به اتمسفر بر می گردد. خواص فتوکاتالیست : - خودتمیز شوندگی - ضد باکتری - تصفیه هوا - ضد ماورا بنفش

توجه: لطفا پیش از خرید هر محصول، روی دکمه جزئیات کلیک کنید و توضیحات را مطالعه کنید.